光刻机工作原理
时间：2026-02-05 00:12:12来源：光刻机是芯片制造的核心设备，主要用于将电路图案转移到硅片上。其工作原理基于光学投影和化学蚀刻技术。
总结：
光刻机通过光源发出的光线，经过透镜系统聚焦后，将掩模版上的电路图案投射到涂有光刻胶的硅片上。随后，通过显影和蚀刻等步骤，完成电路的刻写。
| 步骤 | 说明 |
| 光源 | 使用极紫外光（EUV）或深紫外光（DUV）进行照射 |
| 掩模版 | 含有电路图案的透明玻璃板 |
| 投影系统 | 将掩模版图像缩小并清晰投射到硅片 |
| 光刻胶 | 硅片表面的感光材料，受光照后发生化学变化 |
| 显影 | 去除曝光区域的光刻胶，露出下方硅层 |
| 蚀刻 | 刻出所需电路结构 |
光刻机的技术水平直接影响芯片的精度与性能。
展开更多
标签：
